高純金屬靶材具有超大尺寸、高密度、高純金屬靶材，高純金屬靶材是屬于新型的離子濺射鍍膜靶材料?？蓮V泛應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝、太陽能（光伏）電池的阻擋層，具有很好市場(chǎng)前景和經(jīng)濟(jì)效益。

高純金屬靶材中的鎢靶材主要用作金屬層間的通孔和垂直接觸的接觸孔的填充物，即鎢塞。而鎢合金靶材，如WSi2，主要用在柵極多晶硅的上部作為多晶硅硅化物結(jié)構(gòu)和局部互聯(lián)線。隨著半導(dǎo)體芯片尺寸越來越小，銅互連尺寸的縮小導(dǎo)致納米尺度上電阻率的增加，這已成為制約半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展的一個(gè)技術(shù)瓶頸。有研究表明，難熔金屬鎢有望取代銅成為下一代的半導(dǎo)體布線金屬材料。

鎢金屬具有高熔點(diǎn)、高強(qiáng)度和低的熱膨脹系數(shù)等性能，鎢金屬合金具有低的電阻系數(shù)、良好的熱穩(wěn)定性能和抗氧化性能。由于鎢合金靶材系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能，近幾年來應(yīng)用量急劇增加，鎢金屬靶材世界用量已達(dá)到400t，隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，這種靶材的需求量會(huì)越來越大。具行業(yè)預(yù)測(cè)其用量還會(huì)有很大的增加，國際太陽能電池市場(chǎng)以100%的速度增長(zhǎng)。

金屬靶材中的鎢靶材特點(diǎn)為，噴涂、燒結(jié)后的鎢靶,具有99%的密度甚至更高、平均透明紋理的直徑為100um甚至更小、含氧20ppm或更少，偏轉(zhuǎn)角力為500Mpa左右的特性；提高未加工金屬粉末的生產(chǎn)，提高燒結(jié)的能力，可以使鎢靶的成本穩(wěn)定在一個(gè)低價(jià)位。燒結(jié)后的鎢靶密度高，具有傳統(tǒng)的壓制燒結(jié)方法所無法達(dá)到的高水準(zhǔn)的透明框架，并且明顯改善了偏轉(zhuǎn)角力，以致顆粒物顯著的減少。 

鎢靶合金靶材作為物理氣相沉積用濺射靶材，在半導(dǎo)體領(lǐng)域用于制作柵電極、連接布線、擴(kuò)散阻擋層等。金屬靶材中的鎢靶材主要應(yīng)用于航天、稀土冶煉、電光源、化工設(shè)備、醫(yī)療器械、冶金機(jī)械、熔煉設(shè)備、石油、等領(lǐng)域，而且這些市場(chǎng)將來會(huì)有更廣闊的市場(chǎng)空間。